NMC-3000等離子輔助MOCVD系統(tǒng)：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置（各帶獨立的冷卻槽）、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵（5 x 10-7Torr極限真空）、PC全自動控制。

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更新時間：2025-09-17
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等離子輔助MOCVD技術(shù)

NMC-3000等離子輔助MOCVD概述：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10^-7Torr極限真空)、PC全自動控制，*的安全互鎖。

目前，這項技術(shù)延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。

NMC-3000等離子輔助MOCVD應(yīng)用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

NMC-3000等離子輔助MOCVD系統(tǒng)特點：

臺式系統(tǒng)
5個帶獨立冷卻槽的起泡器
加熱的氣體管路
950 °C樣品臺，2”晶圓片
3個氣體環(huán)
RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布
工藝完成后N2自動沖洗
極限真空5x10-7Torr
260 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
通過LabView軟件實現(xiàn)PC計算機全自動控制
菜單驅(qū)動，4級密碼訪問控制
完整的安全聯(lián)鎖

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